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  • 研制出邦内第一台电介质刻蚀机
    浏览次数:    所属栏目:【新闻动态】    时间:2023-11-15

      研制出邦内第一台电介质刻蚀机

      最近60年,从计算机电子管到纳米器件,人类微观加工面积缩小到原来的一万亿分之一,指甲盖大小的芯片能够集成几百亿个晶体管,而集成电路加工设备的创新和进步是实现万亿倍缩小的关键环节。

      中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称“中微公司”)成立于2004年,是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司,深耕芯片制造刻蚀领域,研制出国内第一台电介质刻蚀机,是我国集成电路设备行业的领先企业。

      全球半导体设备市场由国外厂商主导,行业呈现高度垄断格局,“不对称竞争”是我国集成电路设备产业的主要发展矛盾。成立之后,中微公司克服研发经费不对称、人才资源不对称、准入门槛不对称等重重困难,2015年以全球领先技术打破美国对我国等离子体刻蚀设备的出口管制;2018年自主研制的5纳米等离子体刻蚀设备通过全球领先的晶圆制造厂验证http://xlqmzg.com,,跻身国际第一梯队;2019年成为首批登陆科创板的25家企业之一。

      目前,受通讯、汽车电子等产业强劲需求的推动,一方面半导体设备市场需求不断增大,另一方面芯片供应短缺传导至供应链各个环节,叠加国际政治、经济环境变化,局面愈加错综复杂。未来,中微公司如何继续在国际垄断的夹缝中突围辟新天,我们拭目以待。

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